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資料寫明,這是一臺接觸式光刻機,由華亭光學機械廠試製成功,倍數三百倍,十倍的景深為三十微米,分離間隙是十至三十微米,接近曝光時使用負性光刻脫可獲得解析度為三至五微米。
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